一、行業(yè)概述：

半導體行業(yè)主要分為集成電路、光伏和半導體LED等。

二、廢氣分類：

在半導體制造廠，依照系統(tǒng)廢氣排放可分為：一般排氣(GEX)、酸性排氣 (SEX)、堿性排氣 (AEX)和有機排氣 (VEX)

三、廢氣處理方案：

1、一般排氣系統(tǒng)：

一般排氣 (GEX)系統(tǒng)也稱為熱排氣系統(tǒng) ，生產(chǎn)過程中一些設備局部會產(chǎn)生大量的熱或產(chǎn)生會對高潔凈度生產(chǎn)環(huán)境造成影響的含塵無害氣體。為了滿足半導體制程對環(huán)境溫濕度((22±1)℃，(45±5)％)和潔凈度的極高要求 ，可將此種廢氣通過風管系統(tǒng)進行收集，然后以風機抽取并排放。雖然一般排氣用于抽取設備的含塵排放，但由于一般排氣系統(tǒng)抽取的氣體直接來自潔凈室內(nèi)，且設備含塵排放濃度很低，因此在總風管處檢測的結果仍為潔凈級別，屬于室溫范圍。因此 GEX可以直接排放至大氣環(huán)境 ，不需做任何處理 ，為無害排放。

2、酸堿廢氣處理系統(tǒng)：

半導體制造中產(chǎn)生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的方法，處理設備和處理原理基本相同。對于含有 酸性／堿性物質(zhì)的廢氣 ，大都采用大型洗滌式中央廢氣處理系統(tǒng)進行處理。由于半導體制造工作區(qū)域離中央廢氣處理系統(tǒng)距離較遠 ，因此部分酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統(tǒng)前，常因氣體特性導致在管路中結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞后導致氣體外泄，嚴重者甚至引發(fā)爆炸，危害現(xiàn)場工作人員的工作安全。因此在工作區(qū)域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理 ，之后再排入中央處理系統(tǒng)，而一些特殊的廢氣，包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過干式洗滌塔等設備通過吸附或氧化／燃燒等方法就地處理，之后再排人中央廢氣處理系統(tǒng) 。

3、有機廢氣處理系統(tǒng)：

半導體制造過程中排放的含有有機成分的廢氣通常采用直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化等方法進行處理。只有較高濃度的有機廢氣才建議直接焚燒；活性碳吸附的方法，只有極低濃度的有機廢氣才建議使用。但由于其材料特性，存在易燃燒、水分敏感度高、脫附后殘留負荷高等缺點，中高濃度基本不再使用；半導體制造的有機廢氣排放特點是濃度較低，但排風量較大，因此必須考慮將有機廢氣濃縮后再進行焚燒處理。沸石濃縮轉(zhuǎn)輪系統(tǒng)和焚化爐焚化系統(tǒng)的組合可以很好地解決這一問題。